專業低溫等離子體和稀薄氣體模擬軟件PEGASUS介紹

發布日期:2012-2-20 21:33:58 來源:

專業低溫等離子體和稀薄氣體模擬軟件PEGASUS

上海澳門威尼斯人導航網址信息科技公司(www.fetishbbwblog.com)與日本PEGASUS公司(www.psinc.co.jp)合作,成為專業低溫等離子體和稀薄氣體模擬軟件PEGASUS的中國獨家代理商,負責PEGASUS軟件在中國的銷售及專業的技術服務,也為國內相關領域研發人員提供設計、分析和優化的全麵解決方案。

PEGASUS專注於稀薄氣體的直接蒙特卡洛模擬和低氣壓放電等離子體模擬,是真空技術、等離子體技術、薄膜技術、微電子技術、微細加工技術的專業數值模擬軟件,能廣泛應用於微電子中刻蝕、沉積和濺射設備,真空泵的優化設計,MEMS的工藝過程設計,再入飛行器等領域的研究,應用行業涵蓋電子/半導體、新材料(納米管、光纖)、新能源(燃料電池、太陽能光伏)MEMS、光學、陶瓷、食品/飲料、汽車、航空航天、金屬加工等領域。

PEGASUS軟件主要應用範圍:

1. 真空設備與稀薄氣體模擬

  多種真空設備中的稀薄氣體動理學和粘性流模擬 

  真空蒸鍍設備中的氣體流動和薄膜厚度演化模擬

  稀薄氣體中的納米粒子

  微尺度下的原子與分子行為

2. 等離子體設備模擬

  等離子體刻蝕設備與等離子體增強化學氣相沉積設備中等離子體特性

  ICP (金屬/多晶矽/MEMS刻蝕、介質膜沉積)

  CCP (氧化物刻蝕/太陽能電池或微電子薄膜)

  磁控濺射設備中等離子體和濺射粒子特性

3. 放電模擬

  磁控濺射/空心陰極/表麵放電/介質阻擋放電

  電子束與離子束的產生與輸運

  基於等離子體的離子注入

  等離子體表麵改性

  微放電/微等離子體

4. 特征輪廓模擬

  物理氣相沉積

  化學氣相沉積

  等離子體幹法刻蝕

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